Mützel, Mario: Erzeugung von Nanostrukturen mit laserpräparierten thermischen Atomstrahlen. - Bonn, 2004. - Dissertation, Rheinische Friedrich-Wilhelms-Universität Bonn.
Online-Ausgabe in bonndoc: https://nbn-resolving.org/urn:nbn:de:hbz:5N-04072
Online-Ausgabe in bonndoc: https://nbn-resolving.org/urn:nbn:de:hbz:5N-04072
@phdthesis{handle:20.500.11811/2073,
urn: https://nbn-resolving.org/urn:nbn:de:hbz:5N-04072,
author = {{Mario Mützel}},
title = {Erzeugung von Nanostrukturen mit laserpräparierten thermischen Atomstrahlen},
school = {Rheinische Friedrich-Wilhelms-Universität Bonn},
year = 2004,
note = {Gegenstand dieser Arbeit ist die Erzeugung von Nanostrukturen mit optisch kollimierten, thermischen Atomstrahlen. Im ersten Teil (Kap. 2-4) werden neue Konzepte und Experimente zur Atomlithografie mit Dipolkraft-Lichtmasken präsentiert. Abhängig von der lokalen Laserintensität der Lichtmaske lenkt die optische Dipolkraft Atome ab, wodurch im Atomstrahl Flussdichte-Variationen mit einem Kontrast von ca. 90 % entstehen. Durch Abscheidung der Atome auf einem direkt hinter der Maske positionierten Substrat wird eine Oberflächenstruktur mit Nanometer-Präzision erzeugt. Vorgestellt werden zwei neue Verfahren zur Erzeugung der Lichtmaske:
url = {https://hdl.handle.net/20.500.11811/2073}
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urn: https://nbn-resolving.org/urn:nbn:de:hbz:5N-04072,
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note = {Gegenstand dieser Arbeit ist die Erzeugung von Nanostrukturen mit optisch kollimierten, thermischen Atomstrahlen. Im ersten Teil (Kap. 2-4) werden neue Konzepte und Experimente zur Atomlithografie mit Dipolkraft-Lichtmasken präsentiert. Abhängig von der lokalen Laserintensität der Lichtmaske lenkt die optische Dipolkraft Atome ab, wodurch im Atomstrahl Flussdichte-Variationen mit einem Kontrast von ca. 90 % entstehen. Durch Abscheidung der Atome auf einem direkt hinter der Maske positionierten Substrat wird eine Oberflächenstruktur mit Nanometer-Präzision erzeugt. Vorgestellt werden zwei neue Verfahren zur Erzeugung der Lichtmaske:
- Die Lichtmaske wird durch Beugung eines Laserstrahls an mehreren, multiplex aufgezeichneten Hologrammen erzeugt. Die Intensitätsverteilung der Lichtmaske entsteht durch Mehrstrahl-Interferenz der gebeugten Laserstrahlen bzw. des Referenzlaserstrahls. Diese Methode erlaubt die Erzeugung sehr komplexer Lichtmasken ohne technisch aufwändige Spiegelanordnung. Experimentelle Ergebnisse sowie eine mathematische Behandlung komplexer Lichtmasken werden präsentiert.
- Theoretisch und experimentell wird die Verwendung von gepulsten Lichtmasken (ps-Pulse) untersucht. In enger Analogie zu Dauerstrich-Lichtmasken findet eine Änderung der atomaren Flussdichte in dem gepulsten Lichtfeld statt, solange eine adiabatische Bedingung erfüllt ist. Weiter wird ein Konzept vorgestellt, durch Überlagerung mehrerer gepulster Lichtfelder neuartige, komplexe Lichtmasken zu erzeugen.
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